用于放射性物质检测和X光辐射成像的集成系统专利登记公告
专利名称:用于放射性物质检测和X光辐射成像的集成系统
摘要:本发明涉及放射性物质探测和X光辐射成像领域,提供了一种用于在同一地点进行对被检物体进行放射性物质探测和X光辐射成像的集成系统,解决了现有技术中两种检测必须分开进行的技术问题。本发明中的集成系统包括:X光检测设备,用于对被检物体进行X光辐射成像检查;放射性物质监测设备,用于检测所述被检物体发出的放射性射线;以及用于阻挡X光辐射到达所述放射性物质监测设备的装置。本发明实现了两种检测的紧凑集成,大大节约了空间、时间资源,避免了由于在放射性物质监测设备和X光检测设备之间不断运送货品导致的人力、物力上的浪费。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110435104.1
专利申请(专利权)人:同方威视技术股份有限公司
专利发明(设计)人:阮明;蒲中奇;赵崑;吕君;王小兵;贺宇
主权项:?一种用于对被检物体进行放射性物质探测和X光辐射成像的方法,所述方法包括:利用X光检测设备,对被检物体进行X光辐射成像检查;利用放射性物质监测设备,检测所述被检物体发出的放射性射线;其特征在于,该方法还包括:阻挡X光辐射到达所述放射性物质监测设备。
专利地区:北京
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。