一种无残渣阴离子压裂液专利登记公告

专利名称：一种无残渣阴离子压裂液

摘要：本发明涉及一种无残渣阴离子压裂液。本发明的所述压裂液由不饱和脂肪酸、pH调节剂、无机盐、有机盐、助表面活性剂和水配置而成，其中，相对于所述压裂液的总重量，不饱和脂肪酸1％至5％，pH调节剂0.2％至2.5％，无机盐3.5％至6.5％，有机盐0.2％至0.8％，助表面活性剂0.5至2.5％，其余为水。本发明中的压裂液体系中的阴离子表面活性剂为环境友好型表面活性剂，破胶后残渣基本为0；由于地层岩石带有负电荷，避免了表面活性剂吸附产生的地层伤害；无溶胀过程，易于配制，故在油水井压裂中有很好的应用前景。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110435560.6

专利申请（专利权）人：中国石油天然气股份有限公司

专利发明（设计）人：李玉印;吕俊;吴志俊;张子明;姚维栋;邓宏;刘建权;徐乐;李超;关伟;包放;王疆宁;赵烨

主权项：一种无残渣阴离子压裂液，该无残渣阴离子压裂液由不饱和脂肪酸、pH调节剂、无机盐、有机盐、助表面活性剂和水配置而成，其中，相对于所述压裂液的总重量，碳原子数12～24的不饱和脂肪酸1％至5％；pH调节剂0.2％至2.5％，所述pH调节剂为NaOH、KOH、Na2CO3、Na3PO4或K3PO4中的至少一种物质；无机盐3.5％至6.5％，所述无机盐为KCl、KBr、NaBr、HCOONa、NaNO3或KNO3中的至少一种物质；有机盐0.2％至0.8％，所述有机盐为含烷基的硫酸盐或含苯环的磺酸盐；助表面活性剂0

专利地区：北京