使用两层式结构涂层来制造构件的方法专利登记公告

专利名称：使用两层式结构涂层来制造构件的方法

摘要：本发明涉及使用两层式结构涂层来制造构件的方法。提供了一种制造构件的方法。该制造方法包括使第一结构涂层层淀积在衬底的外表面上。衬底具有至少一个空心内部空间。该制造方法进一步包括通过第一结构涂层层而加工衬底，以在第一结构涂层层中限定一个或多个开口，以及在衬底的外表面中形成相应的一个或多个凹槽。各个凹槽均具有相应的基部，并且至少部分地沿着衬底的表面延伸。该制造方法进一步包括使第二结构涂层层淀积在第一结构涂层层上面以及在凹槽(一个或多个)上面，使得凹槽(一个或多个)和第二结构涂层层共同限定一个或多个通道以冷却构件

专利类型：发明专利

专利号：CN201110436563.1

专利申请（专利权）人：通用电气公司

专利发明（设计）人：R·S·班克;D·M·利普金

主权项：一种制造构件(100)的方法，所述方法包括：使第一结构涂层层(54)淀积在衬底(110)的外表面(112)上，其中，所述衬底(110)具有至少一个空心内部空间(114)；通过所述第一结构涂层层(54)而加工所述衬底(110)，以在所述第一结构涂层层(54)中限定一个或多个开口(58)，以及在所述衬底(110)的所述外表面(112)中形成相应的一个或多个凹槽(132)，其中，所述一个或多个凹槽(132)中的各个均具有基部(134)，并且至少部分地沿着所述衬底(110)的所述表面(112)延伸；以及使所述第二

专利地区：美国