打印头喷嘴形成专利登记公告
专利名称:打印头喷嘴形成
摘要:本发明公开了打印头喷嘴形成。一种在微机电器件中形成喷嘴的技术,在层(500)键合到装置的另一部分(440)之前,在层(500)中形成喷嘴(460、566)。所述的键合前在层(500)中形成喷嘴(460、566)的方式使得可形成具有预定深度和预定几何形状的喷嘴(460、566)。为喷嘴(460、566)选择特定的几何形状可减小墨流阻抗并提高喷嘴(460、566)在整个微机电器件上的均匀性。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110436821.6
专利申请(专利权)人:富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司
专利发明(设计)人:陈振方;安德烈亚斯.拜布尔;保罗.A.霍伊辛顿
主权项:一种形成液体喷射器件的方法,包括:将凹部蚀刻到多层基板的喷嘴层的第一表面内,其中所述多层基板具有处理层,多层基板在喷嘴层和处理层之间具有绝缘层;将喷嘴层的第一表面固定到具有腔室的基板上,使得凹部与腔室流体连通;和在固定后,移除多层基板的处理层和绝缘层,使得腔室通过凹部与大气流体连通。
专利地区:美国
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。