光阻组合物及图案形成方法专利登记公告

专利名称：光阻组合物及图案形成方法

摘要：本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110442501.1

专利申请（专利权）人：信越化学工业株式会社

专利发明（设计）人：渡边聪;田中启顺;渡边武;金生刚

主权项：一种化学增幅型光阻组合物，其在化学增幅型光阻组合物的制备时至少配合有1种或2种以上的氧化胺化合物，该氧化胺化合物是通过氧化制备并且具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的氧化胺化合物，但排除氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形，并且该具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的氧化胺化合物的氮原子具有分别键结于不同碳原子的3个单键，其特征在于，该化学增幅型光阻组合物，作为主要成分，进一步含有：(A2)碱可溶性且通过酸催化剂而变成碱不溶性的基础树脂、及/或碱可溶性且通过酸催化剂而与交联剂反应

专利地区：日本