去污剂生产工艺及配方专利登记公告

专利名称：去污剂生产工艺及配方

摘要：本发明涉及化工去污剂技术领域，特指一种去污剂配方及工艺，其包括用料的重量百分比如下：二氧化硅重量百分比为3％～15％，烃类溶剂重量百分比为15％～50％，氯类溶剂重量百分比为10％～45％，抛射剂重量百分比为20％～45％，其制作去污剂方法步骤是：按配方计量将三氯乙烯或四氯乙烯加入配料锅内，低速搅拌；加入烃类溶剂调节至中速搅拌；缓慢加入二氧化硅，持续搅拌至二氧化硅粉团消失，且配料锅壁基本无二氧化硅粉积聚；经过过滤，然后进行装罐、封口，再进行充气；其无毒素、无污染，采用环保型有机物溶剂将顽固油污稀释，待几分

专利类型：发明专利

专利号：CN201110444573.X

专利申请（专利权）人：田晓琴

专利发明（设计）人：田晓琴

主权项：一种去污剂配方，其包括二氧化硅、烃类溶剂、氯类溶剂抛射剂，其特征在于：各用用料的重量百分比如下：二氧化硅重量百分比为3％～15％，烃类溶剂重量百分比为15％～50％，氯类溶剂重量百分比为10％～45％，抛射剂重量百分比为20％～45％。

专利地区：山西