聚合物、其制备方法及包含该聚合物的抗蚀剂组合物专利登记公告

专利名称：聚合物、其制备方法及包含该聚合物的抗蚀剂组合物

摘要：提供了一种包含由下式(1)表示的重复单元的共聚物：[化学式1]，其中R1表示烷二基基团、杂烷二基基团、环烷二基基团、杂环烷二基基团、亚芳基基团、杂亚芳基基团或烷基亚芳基基团；R2表示氢原子、烷基基团、杂烷基基团、环烷基基团、杂环烷基基团、芳基基团、杂芳基基团、烷氧基基团或烷基烷氧基基团；R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子或者含有1-5个碳原子的烷基基团；n1表示0-10的整数；n2表示0-10的整数。当被掺入抗蚀剂组合物时，所述共聚物可提供具有高敏感性、高分辨率、高抗刻蚀性和较低除气量的令人满意的

专利类型：发明专利

专利号：CN201110447867.8

专利申请（专利权）人：锦湖石油化学株式会社

专利发明（设计）人：吴贞薰;韩俊熙;金兑坤;朱炫相

主权项：一种共聚物，其包含由下式(1)表示的重复单元：[化学式1]其中R1表示选自烷二基基团、杂烷二基基团、环烷二基基团、杂环烷二基基团、亚芳基基团、杂亚芳基基团和烷基亚芳基基团中的任一个；R2表示选自氢原子、烷基基团、杂烷基基团、环烷基基团、杂环烷基基团、芳基基团、杂芳基基团、烷氧基基团和烷基烷氧基基团中的任一个；R3、R4、R5和R6各自独立地表示选自氢原子和含有1?5个碳原子的烷基基团中的任一个；n1表示0?10的整数；和n2表示0?10的整数。FSA00000645989100011.tif

专利地区：韩国