ITO图形显性消除工艺专利登记公告

专利名称：ITO图形显性消除工艺

摘要：一种ITO图形显性消除工艺，其特征在于它包括如下的步骤：使用通用平板清洗设备依次进行如下的分段式清洗基板，喷淋压力设置：1～1.8kg，带速：1.5～3m/min；采用通用涂胶装置和刮涂+旋涂方式涂胶，旋涂速度：700～800转，旋涂时间：8～10S，膜厚控制在1.8～2.2um；光学膜层的材料为：有机高透明绝缘材料，其折射率为1.65～1.75；采用遂道式紫外线热板烘烤，IR烘烤温度：110℃，烘烤时间为100-120秒；采用平行光曝光，可控波长I线365nm，工艺参数为：曝光量：150～300mj，基

专利类型：发明专利

专利号：CN201110448879.2

专利申请（专利权）人：深圳市力合光电传感技术有限公司

专利发明（设计）人：刘锡钢;王磊;许东东;黄卫华

主权项：一种ITO图形显性消除工艺，其特征在于它包括如下的步骤：A：基板清洗采用由氧化铟锡ITO+玻璃基板GLASS+氧化铟锡ITO+绝缘材料INS+钼铝钼膜层MOALMO构成的基板，使用通用平板清洗设备依次进行如下的分段式清洗：滚刷刷洗、纯水喷淋、超声波清洗、纯水喷淋、高压喷淋、中压喷淋、纯水喷淋、末端纯水喷淋；清洗的工艺参数为：喷淋压力设置：1～1.8kg，带速：1.5～3m/min；B：涂光学膜层采用通用涂胶装置和刮涂+旋涂方式进行涂胶，工艺参数为：旋涂速度：700～800转，旋涂时间：8～10S，主要目的

专利地区：广东