一种新型聚合物基电磁屏蔽薄膜或片材及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种新型聚合物基电磁屏蔽薄膜或片材及其制备方法

摘要：本发明公开了一种新型聚合物基电磁屏蔽薄膜或片材及其制备方法。该电磁屏蔽材料由绝缘层和导电层交替层状排列而成，绝缘层为高分子树脂，导电层为二维导电物质填充高分子树脂，绝缘层和导电层具有较大的电阻率比。材料中存在大量的层状界面，而且二维片状导电物质取向且呈平行排列。其制备方法，将绝缘层和导电层物料分别投入微层共挤装置的两台挤出机中熔融塑化，两股熔体在汇合器处叠合成两层，经过n个层倍增器的切割和叠合后，得到2(n+1)层的电磁屏蔽材料。本发明的电磁屏蔽材料的层数和导电层与绝缘层的层厚比分别由层倍增器个数和挤出机

专利类型：发明专利

专利号：CN201110449482.5

专利申请（专利权）人：四川大学

专利发明（设计）人：李姜;郭少云;喻琴

主权项：一种聚合物基电磁屏蔽薄膜或片材，其特征在于:（1）该材料由导电层A和绝缘层B以交替层状的结构叠合而成；（2）材料中存在至少一层连续的层状界面；（3）导电层A和绝缘层B的高分子基体均为高分子树脂C；（4）导电层A添加了二维片状导电物质D，绝缘层B不添加填料。

专利地区：四川