除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法专利登记公告

专利名称：除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法

摘要：本发明公开一种除抛光膏粉剂型超声波清洗剂，所用原料及质量百分比如下：氢氧化钾1~3%、碳酸钠10~40%、磷酸氢二钠10~36%、三聚磷酸钠1~10%、亚硝酸钠1~10%、QYL-252C1~8%、QYL-201~3%、NP-61~3%、渗透剂JFC0.5~5%及有机硅消泡剂1~4%。制备方法按如下步骤进行：开动粉体制作搅拌器，按照粉体制作搅拌的操作规程，将计算称量的碳酸钠、磷酸氢二钠、三聚磷酸钠、亚硝酸钠、氢氧化钾依次徐徐加入到搅拌器中，边加入边搅拌，当固体搅拌均匀后，再将计算称量的QYL-252C、Q

专利类型：发明专利

专利号：CN201110450103.4

专利申请（专利权）人：大连三达奥克化学股份有限公司

专利发明（设计）人：潘德顺;张礼让;李佳琪

主权项：一种除抛光膏粉剂型超声波清洗剂，其特征在于所用原料及质量百分比如下：?????????????????氢氧化钾????????????????????????????????????????????????????????1~3%?????????????????碳酸钠????????????????????????????????????????????????????????????10~40%?????????????????磷酸氢二钠????????????????????????????????

专利地区：辽宁