一种纳米高气密性抗压膜及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种纳米高气密性抗压膜及其制备方法

摘要：本发明公开一种纳米高气密性抗压膜，其由以下组份组成：PVC聚氯乙烯树脂、DOP邻苯二甲酸二辛酯、DBP邻苯二甲酸二丁酯、DCHP邻苯二甲酸二环己酯、稳定剂、改性纳米高岭土、碳酸钙和其他助剂。所述各组份经压延工艺、贴合工艺、冷却和收卷步骤得到所述的纳米高气密性抗压膜。本发明的优点为：选用DOP、DBP、DCHP复合增塑剂，保证PVC树脂塑化充分，DCHP不仅具有塑化作用，同时能使PVC薄膜结构致密，提高了制备的抗压膜的气密性；改性纳米高岭土进一步提高了抗压膜的气密性，同时赋予了抗压膜优异的物理机械性能；选用

专利类型：发明专利

专利号：CN201110454144.0

专利申请（专利权）人：福建思嘉环保材料科技有限公司

专利发明（设计）人：林生雄;张宏旺;黄万能;蒋石生

主权项：一种纳米高气密性抗压膜，其特征在于：所述纳米高气密性抗压膜的组份及其重量份数为：PVC聚氯乙烯树脂?????????100份；DOP邻苯二甲酸二辛酯?????10?25份；DBP邻苯二甲酸二丁酯?????10?25份；DCHP邻苯二甲酸二环己酯??10?15份；稳定剂??????????????????3?5份；改性纳米高岭土??????????5?15份；碳酸钙??????????????????5?15份；其他助剂????????????????1?3份。

专利地区：福建