光引发聚合制备抗盐性分散剂的方法专利登记公告

专利名称：光引发聚合制备抗盐性分散剂的方法

摘要：本发明公开了一种光引发聚合制备抗盐性分散剂的方法，制备方法包括如下步骤：(1)将过渡金属卤化物与2，2′-联二吡啶反应，(2)加入混合单体和光敏引发剂，紫外光辐照反应；(3)过柱子，将所得溶液和氢氧化钠溶液混合，水解，收集聚(乙烯基羧酸-co-乙烯醇)钠盐，再加NaOH溶液调节pH，加水调节重量固含量，得到抗盐性分散剂。原料重量份数如下：混合单体26～46份，过渡金属卤化物0.05～2份，2，2′-联二吡啶0.2～8份，光引发剂0.01～0.1份，溶剂52～72份；重量浓度20～50％的NaOH溶液10～

专利类型：发明专利

专利号：CN201110458519.0

专利申请（专利权）人：上海东升新材料有限公司

专利发明（设计）人：施晓旦;金霞朝;王养臣

主权项：光引发聚合制备抗盐性分散剂的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将过渡金属卤化物与2，2′?联二吡啶，在溶剂中，氮气气氛下，反应，得到均匀的配合物溶液；(2)然后加入混合单体和光敏引发剂，紫外光辐照，再反应；所述混合单体为醋酸乙烯酯和乙烯基羧酸酯的混合物；(3)过氧化铝柱子，将所得溶液和重量浓度为20～50％的氢氧化钠溶液混合，水解，收集聚(乙烯基羧酸?co?乙烯醇)钠盐，再加NaOH溶液调节pH为4～8，加水调节重量固含量至41～43％，得到抗盐性分散剂；过渡金属卤化物为CuI、FeII或NiII的氯

专利地区：上海