沉积掩模专利登记公告

专利名称：沉积掩模

摘要：本发明公开了一种沉积掩模，所述沉积掩模包括：掩模框架，具有限定在所述掩模框架的中心的开放窗口，并且包括形成在所述掩模框架的外表面中的第一开口和第二开口以及形成在所述掩模框架中的用于将第一开口空间连接到第二开口的第一连接通道；掩模片，放置在所述掩模框架上；其中，所述掩模框架的表面面对掩模片并且包括固定到掩模片的固定区域，其中，第一开口位于所述表面的位于所述固定区域的靠近所述开放窗口的侧部上的区域中。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110461209.4

专利申请（专利权）人：三星移动显示器株式会社

专利发明（设计）人：李相信

主权项：一种沉积掩模，所述沉积掩模包括：掩模框架，具有限定在所述掩模框架的中心的开放窗口，并且包括形成在所述掩模框架的外表面中的第一开口和第二开口以及形成在所述掩模框架中的用于将第一开口空间连接到第二开口的第一连接通道；掩模片，放置在所述掩模框架上，其中，所述掩模框架的表面面对掩模片并且包括固定到掩模片的固定区域，其中，第一开口位于所述掩模框架的所述表面的位于所述固定区域的靠近所述开放窗口的侧部上的区域中。

专利地区：韩国