一种甘蔗单芽双芽横排稀植栽植方法专利登记公告

专利名称：一种甘蔗单芽双芽横排稀植栽植方法

摘要：本发明公开了一种甘蔗单芽双芽横排稀植栽植方法，包括深犁深松与单双芽横排稀植过程、重施基肥与平衡施肥过程、甘蔗的初中期管理过程、甘蔗病虫草鼠综合防治过程。采用单双芽横排稀植栽种方式，可以有效地提高单产、提高蔗糖分含量，降低劳动强度，提高甘蔗生产效率，解决了甘蔗种植效益低以及甘蔗窄沟密植难于实施机械化的难题，对我国甘蔗产业的健康发展起到积极的推动作用，具有重要的经济、社会效益。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110462983.7

专利申请（专利权）人：中国热带农业科学院热带生物技术研究所

专利发明（设计）人：杨本鹏;蔡文伟;张树珍;杨学;曾军;伍苏然

主权项：一种甘蔗单芽双芽横排稀植栽植方法，其特征在于，包括深犁深松与单双芽横排稀植过程、重施基肥与平衡施肥过程、甘蔗的初中期管理过程、甘蔗病虫草鼠综合防治过程，其具体过程如下：1)、深犁深松与单双芽横排稀植过程在整地备耕时先进行深犁深松过程，包括旋耕、深犁、旋耕、开沟；蔗种选取：取健康的蔗茎按1个芽1节或2个芽1节进行切割分段；稀植是种植行距按1.2米，单芽种植时株距按0.25米、双芽种植时株距按0.45～0.50米种植；下种后盖土，盖土厚度为5～8厘米；2)、重施基肥与平衡施肥过程种植一季甘蔗共施2次肥，即1次

专利地区：海南