聚合物,光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法专利登记公告

专利名称：聚合物,光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法

摘要：本发明涉及聚合物，光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法。提供了用于形成光刻图案的聚合物和光致抗蚀剂组合物。还提供了以光致抗蚀剂组合物涂敷的基底和形成光刻图案的方法。所述组合物，方法和涂敷基底在半导体装置的制备中具有特殊的应用。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463056.7

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司

专利发明（设计）人：Y·C·裴;D·R·威尔森;孙纪斌

主权项：一种聚合物，其包含：下列通式(I)的单体形成的第一单元：其中：P表示可聚合基团；R1表示单键，或C1至C10的线型或支链有机基团；R2和R3各自独立地表示氢原子或C1至C10的有机基团，任选结合形成环；R4表示氢原子或C1至C10的有机基团；以及R5和R6各自独立地表示C1至C6的有机基团，任选结合形成环；以及包含内酯片段的第二单元。FSA00000664751800011.tif

专利地区：美国