用于配置抗散射格栅的过程和装置专利登记公告

专利名称：用于配置抗散射格栅的过程和装置

摘要：本发明涉及用于配置抗散射格栅的过程和装置。本发明描述了用于在乳腺X射线照相装置中配置抗散射格栅的过程和装置，该乳腺X射线照相装置包括：-射线源，-射线探测器，包括以间距周期性布置的传感器网络，-抗散射格栅，布置在源和探测器之间，且包括射线吸收层板，其彼此平行地布置并以格栅的间距pg间隔，该源能够朝向探测器发射射线以获得患者的乳腺X射线照相图像，所述过程的特征在于，在发射射线期间，执行抗散射格栅和探测器之间的相对位移，格栅的层板定向为与患者可倚靠其而定位的格栅侧面平行，并且格栅的间距与探测器的间距相适应。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463233.1

专利申请（专利权）人：通用电气公司

专利发明（设计）人：H·苏沙伊;M·奇萨鲁克

主权项：用于在乳腺X射线照相装置中配置抗散射格栅(2)的过程，所述乳腺X射线照相装置包括：?射线源(1)，?射线探测器(3)，包括以间距(pd)周期性布置的传感器(31)的网络，以及?抗散射格栅(2)，布置在所述源(1)和所述探测器(3)之间，且包括射线吸收层板(21)，其彼此平行地布置并以所述格栅的间距(pg)周期性地分布，所述源(1)能够朝向所述探测器(3)发射射线以获得所述患者(P)的乳腺X射线照相图像，所述过程的特征在于，在发射射线期间，通过根据具有与所述格栅(2)的所述层板(21)的方向垂直的至少一个分

专利地区：美国