用于分析带电粒子束的密度的装置和方法专利登记公告

专利名称：用于分析带电粒子束的密度的装置和方法

摘要：用于通过使用穿有孔7的转动靶2来分析带电粒子束F的截面中的电流密度的装置和方法。这种装置和相关的处理方法使得能够不用断层X线摄影重构方法来重构电流密度的3D图像。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463322.6

专利申请（专利权）人：高级冶金技术公司

专利发明（设计）人：P·J·奥旺

主权项：用于分析带电粒子入射束(F)中的电流密度的装置(1)，其特征在于，所述装置包括：活动靶(2)，所述活动靶被布置以便在分析过程中在其中投射所述入射束(F)；至少一个孔(7)，其穿过所述活动靶(2)并且被布置以便当所述靶(2)移动时每个孔(7)按照各自的路径经过所述束的截面，以及仅入射束(F)的一部分(dF)通过所述孔(7)穿过所述靶；和，用于测量所述部分(dF)的电流密度的部件(8)。

专利地区：法国