用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法专利登记公告

专利名称：用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法

摘要：用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法。本发明涉及一种用于浸没式光刻的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含有糖取代基的材料。本发明特别优选的光刻胶在浸没式光刻工艺中，能够降低抗蚀材料在抗蚀层与浸没液体接触时的浸出。提供一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的，和(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463331.5

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司

专利发明（设计）人：吴俊锡;D·王;刘骢;李明琦;C·吴;C-B·徐

主权项：一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：(a)在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的，和(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光刻胶组合物。

专利地区：美国