单体,聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法专利登记公告

专利名称：单体,聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要：单体，聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了包含缩醛基团的(甲基)丙烯酸单体，包含由这种单体形成单元的聚合物和包含这种聚合物的光致抗蚀剂组合物。所述单体，聚合物和光致抗蚀剂组合物在形成光刻图案上是有用的。本发明还提供了涂覆有该光致抗蚀剂组合物的基板，形成光刻图案的方法以及电子器件。所述组合物，方法和涂覆的基板在半导体器件的制造上找到了特别的适用性。提供了以下通式(I)的单体。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463333.4

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司

专利发明（设计）人：M·S·奥伯;Y·C·裴;刘沂;李承泫;朴钟根

主权项：以下通式(I)的单体：其中：L代表单键或C1?C10的有机基团；R1代表氢或C1?C3的烷基；R2各自独立地代表氢原子或C1?C10的有机基团；R3各自独立地代表氢原子或C1?C10的有机基团，那些键接到相同碳原子的R3任选一起形成环；和R4各自独立地代表C1?C10的有机基团，那些键接到相同碳原子的R4任选一起形成环。FSA00000684585900011.tif

专利地区：美国