气体处理系统专利登记公告

专利名称：气体处理系统

摘要：本发明提供适宜于实现含有配管的整个气体处理系统的低价格化、小型化、维护性的提高的气体处理系统。本发明的气体处理系统1具备以作为半导体材料气体的硅烷、或者作为对等离子体CVD装置等的密闭腔室C1、C2…Cn内用例如等离子体进行清扫时的清洗气体使用的NF3、CF4、C2F6、SF6、CHF3、CF6等气体状氟化物作为待处理气体，对这些待处理气体进行燃烧分解和洗涤集尘的水冷燃烧式除害装置2；以及对燃烧分解及洗涤集尘后的处理气体进行电集尘的电集尘装置3；以及将电集尘后的处理气体输送至工厂洗涤器设备5的配管4。

专利类型：发明专利

专利号：CN201180003833.8

专利申请（专利权）人：埃地沃兹日本有限公司

专利发明（设计）人：中山泉;高桥克典

主权项：?一种气体处理系统，其机能为在工厂内将待处理气体进行无害化处理，其特征在于，具备：对所述待处理气体进行燃烧分解和洗涤集尘的水冷燃烧式除害装置、以及对所述燃烧分解和洗涤集尘后的处理气体进行电集尘的电集尘装置、以及将所述电集尘后的处理气体输送至所述工厂中原有的洗涤器设备的配管。

专利地区：日本