流体处理装置及处理方法专利登记公告

专利名称：流体处理装置及处理方法

摘要：本发明提供在可以接近·分离的相对进行旋转的处理用面(1、2)之间进行被处理物处理的流体处理装置，其将第1流体导入处理用面(1、2)间，从与该流体独立的其它流路(d2)将第2流体导入处理用面(1、2)间，在处理用面(1、2)间混合·搅拌来进行处理。该装置的处理用部(20)通过装配分开的多个的处理用部构成部件(20a、20b)来构成。在多个的处理用部构成部件(20a、20b)的空间内形成开口部(d20)及流路(d2)。由此，不需要将作为处理用部(20)的环状圆盘的全部制成一块，另外不需要对与连通开口部(d20

专利类型：发明专利

专利号：CN201180004248.X

专利申请（专利权）人：M技术株式会社

专利发明（设计）人：榎村真一

主权项：一种流体处理装置，其特征在于，其为在可以接近·分离的至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用部中的处理用面之间进行被处理物的处理的装置，将被处理流动体导入处理用面间、进行处理的装置，其中，所述处理用部由分开的多个的处理用部构成部件构成，通过装配该分开的多个的处理用部构成部件而构成所述处理用部。

专利地区：日本