反射膜层叠体专利登记公告

专利名称：反射膜层叠体

摘要：本发明的反射膜层叠体，其特征在于，在基体上具有纯Ag膜、或Ag基合金膜作为第1层，在前述第1层上具有选自由Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si组成的组中的1种以上的金属的氧化物膜作为第2层，前述第2层的厚度为0.1～10nm，通过设置前述第2层，反射率的降低为30％以下。这样的反射膜层叠体具有高初期反射率的同时，耐硫化性和耐热性优异，并且具有针孔尽量少的保护膜，其结果是，不易引起由Ag膜的Ag原子的集聚导致的反射率的降低。

专利类型：发明专利

专利号：CN201180004964.8

专利申请（专利权）人：株式会社神户制钢所

专利发明（设计）人：桂翔生;铃木顺;小林宣裕;佐藤俊树

主权项：一种反射膜层叠体，其特征在于，在基体上具有纯Ag膜、或Ag基合金膜作为第1层，在所述第1层上具有选自Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si中的1种以上的金属的氧化物膜作为第2层，所述第2层的厚度为0.1～10nm，通过设置所述第2层而带来的反射率的降低为30％以下。

专利地区：日本