研磨垫专利登记公告

专利名称：研磨垫

摘要：本发明的目的在于提供一种研磨垫，其具有具备相分离结构的研磨层，研磨速度大，平坦化特性优良，能够抑制划痕的产生。本发明的研磨垫，具有研磨层，所述研磨垫的特征在于，所述研磨层由含有异氰酸酯封端预聚物(A)、异氰酸酯封端预聚物(B)以及增链剂的聚氨酯原料组合物的反应固化物形成，其中，所述异氰酸酯封端预聚物(A)通过使包含异氰酸酯成分和聚酯系多元醇的预聚物原料组合物(a)反应而得到，所述异氰酸酯封端预聚物(B)通过使包含异氰酸酯成分和聚醚系多元醇的预聚物原料组合物(b)反应而得到，且所述反应固化物具有相分离结构。

专利类型：发明专利

专利号：CN201180004980.7

专利申请（专利权）人：东洋橡胶工业株式会社

专利发明（设计）人：清水绅司;数野淳

主权项：一种研磨垫，具有研磨层，所述研磨垫的特征在于，所述研磨层由含有异氰酸酯封端预聚物(A)、异氰酸酯封端预聚物(B)以及增链剂的聚氨酯原料组合物的反应固化物形成，其中，所述异氰酸酯封端预聚物(A)通过使包含异氰酸酯成分和聚酯系多元醇的预聚物原料组合物(a)反应而得到，所述异氰酸酯封端预聚物(B)通过使包含异氰酸酯成分和聚醚系多元醇的预聚物原料组合物(b)反应而得到，且所述反应固化物具有相分离结构。

专利地区：日本