分析装置专利登记公告

专利名称：分析装置

摘要：本发明的实施方式涉及分析装置。提供一种在使用了透镜的光学系统中使比浊测量的测量性能提高的分析装置。实施方式中记载的分析装置具有对反应管内的混合液照射来自光源的光的照射光学部。此外，检测光学部对透射了混合液后的光进行检测。此外，照射光学部在前侧焦点位置上配置光源，具有会聚来自光源的光的第一光学元件。此外，第二光学元件将通过了第一光学元件后的光引导到反应管。此外，在第一光学元件的后侧设置入射数值孔径调整部件，对使来自光源的光入射到反应管时的数值孔径进行调整。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210006886.1

专利申请（专利权）人：株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社

专利发明（设计）人：金山省一;多田友行;冈田直忠

主权项：一种分析装置，其特征在于，具有：照射光学部，对反应管内的混合液照射来自光源的光；和检测光学部，对透射了所述混合液后的光进行检测，所述照射光学部具有：第一光学元件，在前侧焦点位置上配置有所述光源，会聚来自所述光源的光；第二光学元件，将通过了所述第一光学元件后的光引导到所述反应管；和入射数值孔径调整部件，设置在所述第一光学元件的后侧，对使来自所述光源的光入射到所述反应管时的数值孔径进行调整。

专利地区：日本