一种V-Si-N纳米复合硬质涂层及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种V-Si-N纳米复合硬质涂层及其制备方法

摘要：本发明公开了一种V-Si-N纳米复合硬质涂层的制备方法，包括以下步骤：基体清洗；沉积涂层：将Si靶安装在中频阴极上，V靶安装在直流阴极上，Si靶和V靶通过挡板与基体隔离，先通入Ar气，进行预溅射，再通入N2气，通过调节Si靶的功率和V靶的功率，在350～600℃和0.3～1.0Pa条件下，沉积V-Si-N纳米复合硬质涂层，其可操作性强、可控性好、易于实施。本发明还公开了一种V-Si-N纳米复合硬质涂层，成分表示为(V1-xSix)N，其中，1-x为0.7～0.98，x为0.02～0.3，兼具有高硬度和低摩

专利类型：发明专利

专利号：CN201210007178.X

专利申请（专利权）人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所

专利发明（设计）人：黄峰;葛芳芳;李艳玲;戴丹

主权项：一种V?Si?N纳米复合硬质涂层的制备方法，包括以下步骤：(1)基体清洗；(2)沉积涂层：在真空室中，将Si靶安装在中频阴极上，V靶安装在直流阴极上，Si靶和V靶到基体的距离均为5cm～10cm，Si靶和V靶通过挡板与基体隔离，先通入Ar气，进行预溅射，再通入N2气，通过调节Si靶的功率和V靶的功率，在350℃～600℃和0.3Pa～1.0Pa条件下，对基体溅射沉积V?Si?N纳米复合硬质涂层，得到V?Si?N纳米复合硬质涂层；所述的Si靶的功率密度为0.5～2.5W/cm2，V靶的功率密度为2.5～6.

专利地区：浙江