一种气体泄漏红外成像探测极限的计算方法专利登记公告

专利名称：一种气体泄漏红外成像探测极限的计算方法

摘要：本发明涉及一种气体泄漏红外成像探测极限的计算方法，属于气体泄漏探测领域。首先计算无气体泄漏时的背景辐射出射度，并将之作为成像探测背景辐射出射度；由成像探测背景辐射出射度计算成像探测背景等效黑体温度；其次气体泄漏时，根据成像探测背景辐射出射度中的气体参数计算背景辐射经气体吸收后的辐射出射度，即为成像探测目标辐射出射度；由成像探测目标辐射出射度计算成像探测目标等效黑体温度；然后计算出的成像探测背景与目标等效黑体温度之差的绝对值定义为气体等效黑体温差；最后比较气体等效黑体温差与红外探测器和光学系统的综合性能参数

专利类型：发明专利

专利号：CN201210009355.8

专利申请（专利权）人：北京理工大学

专利发明（设计）人：王岭雪;龙云婷;李家琨;王美荣;高岳

主权项：一种气体泄漏红外成像探测极限的计算方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步：计算无气体泄漏时的背景辐射出射度，并将之作为成像探测背景辐射出射度Eb；第二步：由成像探测背景辐射出射度Eb计算成像探测背景等效黑体温度Tbb；第三步：气体泄漏时，根据成像探测背景辐射出射度中的气体参数计算背景辐射经气体吸收后的辐射出射度，即为成像探测目标辐射出射度Ep；第四步：由成像探测目标辐射出射度Ep计算成像探测目标等效黑体温度Tt；第五步：将第二步和第四步计算出的成像探测背景与目标等效黑体温度之差的绝对值定义为气体等效黑体温

专利地区：北京