电极制造装置、电极制造方法和计算机存储介质专利登记公告

专利名称：电极制造装置、电极制造方法和计算机存储介质

摘要：本发明提供一种电极制造装置，其在制造电极时能够适当且高效地在带状的基材的表面形成活性物质层。该电极制造装置(1)包括：放卷带状的金属箔(M)的放卷辊(10)；在金属箔(M)的两面涂敷活性物质混合剂的涂敷部(11)；使金属箔(M)上的活性物质混合剂干燥而形成活性物质层的干燥部(12)；和卷取金属箔(M)的卷取辊(13)。在金属箔(M)的搬送方向上从上流侧按以下顺序配置放卷辊(10)、涂敷部(11)、干燥部(12)、卷取辊(13)。放卷辊(10)和卷取辊(13)配置为在以金属箔(M)的长度方向为水平方向且以金

专利类型：发明专利

专利号：CN201210010321.0

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：寺田和雄

主权项：一种电极制造装置，其在带状的基材的两面形成活性物质层以制造电极，该电极制造装置的特征在于，包括：放卷基材的放卷部；对在所述放卷部被放卷的基材进行卷取的卷取部；涂敷部，其设置在所述放卷部与所述卷取部之间，在基材的两面涂敷活性物质混合剂；和干燥部，其设置在所述涂敷部与所述卷取部之间，使在所述涂敷部被涂敷的所述活性物质混合剂干燥以形成活性物质层，所述放卷部和所述卷取部配置为在以基材的长度方向为水平方向且以基材的宽度方向为铅直方向的朝向搬送基材。

专利地区：日本