变质基板体系、其制备方法以及III-氮化物半导体器件专利登记公告

专利名称：变质基板体系、其制备方法以及III-氮化物半导体器件

摘要：本发明提供了一种层压基板体系，所述层压基板体系含有变质过渡区(2)，所述变质过渡区(2)由多个交替的AlxGa1-xN(5)和支撑基板材料(4)(或者与支撑基板具有相同的一般化学组成的材料)层制成。在层压基板体系之上形成具有低位错密度的III-氮化物半导体器件(2)。变质过渡区的多个层(4，5)形成超晶格结构，该超晶格结构的晶格常数和结构沿其生长方向从支撑基板(1)的(在支撑基板附近的)晶格常数和结构变化为器件(3)的(器件附近的)晶格常数和结构。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210012118.7

专利申请（专利权）人：夏普株式会社

专利发明（设计）人：斯图尔特·爱德华·胡帕;瓦莱里·贝里曼-博斯奎特

主权项：一种基板体系，所述基板体系包括：基板，所述基板由基板材料制成；变质过渡区，所述变质过渡区设置在所述基板的表面上，所述变质过渡区包含多个交替的AlxGa1?xN层(0≤x≤1)和具有与所述基板材料相同的一般化学组成的材料层。

专利地区：日本