纳米颗粒阵列为模版的双组分双层纳米润滑薄膜的制备方法专利登记公告

专利名称：纳米颗粒阵列为模版的双组分双层纳米润滑薄膜的制备方法

摘要：本发明公开了一种纳米颗粒阵列为模版的双组分双层纳米润滑薄膜的制备方法，该法采用纳米颗粒阵列为模版在羟基化的单晶硅表面分别使用液相法和气相法制备双组分双层纳米润滑薄膜，这种双组分双层自组装膜的成分控制可由纳米颗粒溶液的浓度或提拉速度控制。制备的双层纳米膜是由润滑性能优异的烷基羧酸与全氟羧酸以化学键键合在单晶硅表面形成的自组装膜组成，结合了烷基羧酸长寿命和全氟羧酸低表面能抗粘着的双重优点，因此所得的双组分双层纳米润滑薄膜具有更好的摩擦学性能、润滑性优异，极大地提高了单一自组装单分子膜的承载能力、抗粘着和耐磨性

专利类型：发明专利

专利号：CN201210014816.0

专利申请（专利权）人：广西大学

专利发明（设计）人：莫宇飞;黄福川;卢朝霞;杨茂立

主权项：一种纳米颗粒阵列为模版的双组分双层纳米润滑薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：<1>单组分自组装双层薄膜氨基化单晶硅表面的制备先将单晶硅片的单晶硅表面浸泡在piranha溶液中进行羟基化；取出羟基化单晶硅片，依次在乙醇、丙酮溶液中超声清洗，然后氮气吹干；吹干后的羟基化单晶硅片浸泡入末端氨基的硅烷偶联剂溶液中进行氨基化，取出依次在乙醇、丙酮溶液中超声清洗；氨基化表面后的单晶硅片用提拉法浸入纳米颗粒溶液中，然后缓慢提出；将长碳链的烷基羧酸和氨基化的单晶硅片放置在可控温的干燥箱中进行气相沉积过程；取出的样品

专利地区：广西