阴影光谱模拟方法专利登记公告

专利名称：阴影光谱模拟方法

摘要：本发明涉及一种阴影光谱模拟方法，采用野外地物光谱仪实地测量无阴影条件下白板或地物的辐亮度和有阴影条件下白板或地物的辐亮度，计算出阴影光谱亮度衰减系数，结合已知无阴影的入射光谱亮度和地物光谱反射率，再根据已计算出的阴影光谱亮度衰减系数，得出模拟阴影地物光谱。本发明从深层次的光谱角度对阴影进行研究，找出阴影地物光谱受阴影强度和地物光谱的影响而存在的波段差异,定量表征不同波段的阴影强度，精确还原和模拟阴影条件下的地物光谱,有效探测阴影下的目标并消除阴影的影响，对于高光谱图像模拟、阴影检测和去除以及目标探测和识别

专利类型：发明专利

专利号：CN201210016629.6

专利申请（专利权）人：中国人民解放军61517部队

专利发明（设计）人：林伟;陈玉华;王吉远;苏荣华;余松林

主权项：一种阴影光谱模拟方法，其特征在于步骤如下：步骤1，采用野外地物光谱仪实地测量无阴影条件下白板或地物的辐亮度(Idw)和有阴影条件下白板或地物的辐亮度(Isw)，通过公式(4)计算阴影光谱亮度衰减系数(kI)，阴影光谱亮度衰减系数： k I ≈ I dw

专利地区：北京