高透光性低辐射镀膜玻璃专利登记公告

专利名称：高透光性低辐射镀膜玻璃

摘要：本发明公开了一种高透光性低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底和形成在玻璃基底上的膜系。其中，所述膜系自玻璃基底向外依次包括第一膜层组合层、功能层和第二膜层组合层，所述第一膜层组合层、第二膜层组合层中均至少包括一Si膜层，所述第一膜层组合层的第一Si膜层和所述第二膜层组合层的第二Si膜层分别位于所述功能层的上下两侧并紧邻所述功能层，所述功能层为Ag层。本发明的玻璃膜系可在无氧条件下沉积，能够有效的避免镀膜玻璃功能层的氧化，并且本发明膜层结构简单、膜系粘附力强、易于沉积，具有高可见光透过率和低辐射率的优点。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210021271.6

专利申请（专利权）人：林嘉宏

专利发明（设计）人：林嘉宏

主权项：一种高透光性低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底和形成在所述玻璃基底上的膜系，其特征在于：所述膜系自玻璃基底向外依次包括第一膜层组合层、功能层和第二膜层组合层，所述第一膜层组合层、第二膜层组合层中均至少包括一Si膜层，所述第一膜层组合层具有第一Si膜层，所述第二膜层组合层具有第二Si膜层，第一膜层组合层的第一Si膜层和第二膜层组合层的第二Si膜层分别位于所述功能层的上下两侧并紧邻功能层，所述功能层为Ag层。

专利地区：台湾