磁控溅射制备BaTiO₃-Ni_0.5Zn_0.5Fe₂O₄铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法专利登记公告

专利名称：磁控溅射制备BaTiO₃-Ni_0.5Zn_0.5Fe₂O₄铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法

摘要：本发明公开了一种射频磁控溅射制备BaTiO3-Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法。先制备含有Ni-Zn-Fe-Ba-Ti源的溶胶前驱体，烘干、热处理后成型并烧结成靶材；然后利用磁控溅射法在ITO/玻璃基板上沉积膜层；在空气气氛下热处理制备得到两相复合陶瓷薄膜。其薄膜既具有铁电性，又具有铁磁性。本发明结合了磁控溅射法具有制备方便，薄膜性能稳定，工艺与传统半导体工艺兼容的优点，又利用溶胶凝胶方法可以达到相当高的均匀性的特点，综合控制在一个均匀系统中原位形成两相并保持了两相各自的铁电性

专利类型：发明专利

专利号：CN201210024838.5

专利申请（专利权）人：浙江大学

专利发明（设计）人：杜丕一;梁腾;马宁;韩高荣;翁文剑;赵高凌;沈鸽;宋晨路;程逵;徐刚;张溪文

主权项：一种磁控溅射制备BaTiO3?Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜，其特征在于：其薄膜沉积于镀有ITO导电电极的玻璃基板上，获得既具有铁电性又具有铁磁性的薄膜。

专利地区：浙江