一种基于平面金属条的光波导及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种基于平面金属条的光波导及其制备方法

摘要：本发明提供一种基于平面金属条的光波导及其制备方法，其结构特征包括掺杂硅层及其上加工的平面金属条。制作流程包括：选择合适的绝缘硅(SOI)，在掺杂硅表面沉积一层金属膜，再在金属膜表面涂覆抗蚀剂，利用紫外纳米压印技术在抗蚀剂上制作图形，最后通过干法刻蚀得到基于平面金属条的光波导。本发明中的光波导是由平面金属条制备于掺杂硅表面而成，可以使其在约束光波和降低能量损耗方面有明显改善；同时使用SOI片，避免了掺杂不均、掺杂层厚度难控制等缺点，保证了掺杂的浓度和均匀度；另外，本发明采用紫外纳米压印技术可以获得大面积、均

专利类型：发明专利

专利号：CN201210026572.8

专利申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所

专利发明（设计）人：李国俊;潘丽;胡承刚;邱传凯;李飞;罗先刚;周崇喜;岳衢

主权项：一种基于平面金属条的光波导的制作方法，其特征在于该方法步骤如下：步骤(1)选取单面抛光的SOI片，将表面清洗干净；步骤(2)在SOI片的掺杂硅表面沉积一层金属膜；步骤(3)在金属膜层表面涂覆抗蚀剂；涂覆完成后对基片进行热板或烘箱烘烤，烘烤温度为100～115℃，烘烤时间为2～5min；步骤(4)通过紫外纳米压印的方式，用压印模板在抗蚀剂上制作图形，并利用等离子刻蚀机去除压印后所剩余的抗蚀剂；步骤(5)采用干法刻蚀，将步骤(4)中的抗蚀剂图形转移至金属层；步骤(6)用有机溶剂浸泡刻蚀好的样品，将刻蚀剩余的抗

专利地区：四川