一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质专利登记公告

专利名称：一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质

摘要：一种高温高湿条件下适合佛甲草生长的栽培混合基质，本发明旨在公开一种在高温高湿条件下，佛甲草仍可以较正常生长的栽培混合基质，此栽培混合基质成本低、环保卫生，排水和持水能力均衡协调，在高温高湿条件下仍能适合佛甲草的生长。栽培混合基质的主要构成为园林废弃物、珍珠岩、椰糠，按照园林废弃物：珍珠岩：椰糠=8：1：1的比例进行混合。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210030116.0

专利申请（专利权）人：广州市东篱环境艺术有限公司

专利发明（设计）人：何一王;何茜莹;徐玲;汤聪

主权项：一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质，其原料组成及体积配比如下：园林废弃物??4?8??珍珠岩??0.5?1.5??椰糠??0.5?1.5?混合均匀即得。

专利地区：广东