光学设备、扫描方法、光刻设备和器件制造方法专利登记公告

专利名称：光学设备、扫描方法、光刻设备和器件制造方法

摘要：本发明公开了一种光学设备、扫描方法、光刻设备和器件制造方法。所述设备(AS)测量光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。测量光学系统包括用于用辐射斑(206)照射标记的照射子系统(504)和用于检测由标记衍射的辐射的检测子系统(580)。倾斜反射镜(562)与标记自身的扫描运动同步地相对于测量光学系统的参考框架(RF)移动辐射斑，以允许获取用于精确的位置测量的更多的时间。反射镜倾斜轴线(568)被沿着反射镜平面与物镜(524)的光瞳面(P)的相交线布置，以最小化扫描的假象。相同的几何布置可以用于其他类型的

专利类型：发明专利

专利号：CN201210033098.1

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：A·J·登博夫

主权项：一种光学设备，包括用于在所述设备的光学系统和物体之间传递辐射光线的物镜，所述光学设备还包括至少一个可移动元件，所述可移动元件包括布置在所述光学系统和所述物镜之间的反射镜，用于倾斜和由此改变所述光线在它们穿过所述物镜时的方向，其中所述反射镜被限制以关于轴线倾斜，所述轴线定位成大致沿着所述物镜的光瞳面和所述反射镜的平面之间的相交线。

专利地区：荷兰