基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置专利登记公告

专利名称：基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置

摘要：一种基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置，该装置包括双光束全息干涉光路，柱面镜，扫描平台和自动聚焦系统，由紫外激光器、第一半透半反镜、第一反射镜、第二反射镜、第一扩束准直装置、第二扩束准直装置、柱面镜、扫描平台、红光激光器、第二半透半反镜、像散透镜、四象限探测器组成，本发明装置可以实现高密度光栅的并行光刻，装置具有稳定性好、并行度高、光栅加工速度快等优点。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210033824.X

专利申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所

专利发明（设计）人：贾伟;周常河;俞斌;麻健勇;王少卿;曹红超

主权项：一种基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置，其特征在于：该装置包括双光束全息干涉光路，用于产生高密度的光栅条纹场；柱面镜，可以将二维光栅场聚焦成一维高密度点阵；扫描平台（8），用于置放扫描基片并实现扫描基片的精确定位和扫描移动；自聚焦系统，控制扫描平面与柱面镜焦面始终保持一致；由紫外激光器（1）、第一半透半反镜（2）、第一反射镜（3）、第二反射镜（4）、第一扩束准直装置（5）、第二扩束准直装置（6）、柱面镜（7）、扫描平台（8）、红光激光器（9）、第二半透半反镜（10）、像散透镜（11）、四象限探测

专利地区：上海