一种混合狭缝光波导专利登记公告

专利名称：一种混合狭缝光波导

摘要：本发明公开了一种具备低传输损耗和强光场限制能力的混合狭缝光波导，该波导结构的横截面包括介质基底层(1)、位于介质基底层上的高折射率介质层(2)、位于高折射率介质层(2)上的从左到右依次排列的高折射率介质区(3)、包覆有低折射率介质层(6)的金属区(5)、高折射率介质区(4)以及包层(7)。金属区与两侧紧邻的高折射率介质区的耦合，使得光场能够限制在中心的狭缝区域中，同时能保持较低的传输损耗。该混合狭缝光波导与传统介质狭缝波导加工工艺相匹配，可用于构建各类集成光子元件。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210041959.0

专利申请（专利权）人：北京航空航天大学

专利发明（设计）人：郑铮;卞宇生;赵欣;苏亚林;刘磊;刘建胜

主权项：一种混合狭缝光波导，其横截面包括基底层、位于基底层上的高折射率介质层、位于高折射率介质层上从左到右依次排列的高折射率介质区、包覆有低折射率介质层的金属区和高折射率介质区、以及包层；其中包覆有低折射率介质层的金属区位于两个高折射率介质区之间且与两个高折射率介质区互不接触，金属区的宽度为所传输的光信号的波长的0.01?0.1倍，其高度为所传输的光信号的波长的0.01?0.1倍，金属区和低折射率介质层共同构成的区域的外轮廓的宽度为所传输的光信号的波长的0.012?0.126倍，其高度为所传输的光信号的波长的0.

专利地区：北京