提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备专利登记公告

专利名称：提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备

摘要：本发明提供一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法，包括以下步骤：提供一清洗台，将晶圆水平放置于所述清洗台上；将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方，所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向；晶圆启动水平自转，所述清洗喷头启动水平移动；开始清洗过程，所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面，所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止；结束清洗，所述清洗喷头停止供应清洗液，所述晶圆继续水平自转，以甩干所述晶圆。本发明还提供了一种清洗甩干设备。本发明能够极大地提高晶圆清洁度，减少液体杂质及颗粒杂质的残留问题，对设

专利类型：发明专利

专利号：CN201210045385.4

专利申请（专利权）人：上海集成电路研发中心有限公司

专利发明（设计）人：王毅博

主权项：一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法，包括：提供一清洗台，将晶圆水平放置于所述清洗台上；将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方，所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向；晶圆启动水平自转，所述清洗喷头启动水平移动；开始清洗过程，所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面，所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止；结束清洗，所述清洗喷头停止供应清洗液，所述晶圆继续水平自转，以甩干所述晶圆。

专利地区：上海