一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪专利登记公告

专利名称：一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪

摘要：本发明属于光谱测量技术领域，公开了一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪。它包括光学结构、二维探测器和数据采集系统，所述的光学结构包括前置望远镜、入射狭缝和菲涅尔双面镜；所述菲涅尔双面镜包括平面反射镜M1和平面反射镜M2。本发明的成像光谱仪，在结构上，从入射狭缝到二维探测器之间仅有一个光学元件（菲涅尔双面镜），这使得仪器结构大为简化；另外，由于本发明在光路结构中采用菲涅尔双面镜，菲涅尔双面镜表面反射率高，入射光能损失低。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210045815.2

专利申请（专利权）人：安徽工业大学

专利发明（设计）人：赵光兴;赵远

主权项：一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪，其特征在于，它包括光学结构、二维探测器（4）和数据采集系统（5），所述的光学结构包括前置望远镜（1）、入射狭缝（2）和菲涅尔双面镜（3）；所述菲涅尔双面镜（3）包括平面反射镜M1和平面反射镜M2；在前置望远镜（1）至二维探测器（4）的光路上，依次排列安装有前置望远镜（1）、入射狭缝（2）、菲涅尔双面镜（3）和二维探测器（4）；所述入射狭缝（2）位于前置望远镜（1）的焦平面上；垂直于入射狭缝（2）方向的从入射狭缝（2）出射的光束全部落在菲涅尔双面镜（3）上，菲涅尔双面镜（3）

专利地区：安徽