涂布装置和涂布方法专利登记公告

专利名称：涂布装置和涂布方法

摘要：本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210046849.3

专利申请（专利权）人：东丽工程株式会社

专利发明（设计）人：西元美纪;伊藤祯彦;内山悟

主权项：一种涂布装置，其特征在于，该涂布装置包括：涂布液供给装置，用于供给涂布液；涂布器，具有与所述涂布液供给装置连通而排出所述涂布液用狭缝状的排出口；移动装置，用于使所述涂布器和被涂布部件相对移动；清扫装置，向沿着所述排出口的狭缝方向的擦拭方向移动，并在所述涂布器的排出口周边部上一边滑动一边去除附着物；其中，所述清扫装置包括：清扫单元，通过被支撑在支撑部件上的清扫部件进行清扫；θ平台，用于在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成

专利地区：日本