一种抗辐射涂布膜的制备方法专利登记公告

专利名称：一种抗辐射涂布膜的制备方法

摘要：本发明公开了一种抗辐射涂布膜的制备方法，该方法的步骤为将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。本发明与现有技术相比的优点为：采用本方法生产抗辐射涂布膜，涂料化合物形成的涂层均匀、厚度可控性好且膜层间附着力更好，产品质量性能优异；本方法工艺简单、效率高、成本较低，可实现工业化大规模生产。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210049298.6

专利申请（专利权）人：苏州金海薄膜科技发展有限公司

专利发明（设计）人：金国华

主权项：一种抗辐射涂布膜的制备方法，其特征在于：该制作方法的具体步骤如下：将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。

专利地区：江苏