圆筒状射流态直接电沉积设备及使用其电积金属的方法专利登记公告

专利名称：圆筒状射流态直接电沉积设备及使用其电积金属的方法

摘要：一种圆筒状射流态直接电沉积设备及使用其电积金属的方法，其中设备包括外层阴极管、内层阳极管、进料液管和出料口，所述外层阴极管套设在所述内层阳极管之外；所述内层阳极管的一端密封，另一端与所述进料液管密封连通；所述外层阴极管靠近所述进料液管的一端与同一端的内层阳极管之间密封连接，所述外层阴极管的另一端连通所述出料口；所述内层阳极管上开设有连通所述外层阴极管和所述内层阳极管的阳极管壁小孔。本发明可在大规模电沉积生产中的应用，可实现自动化、连续化、大规模化工业生产，又可实现矿石低品位，产出高品质，低投资成本、高产出

专利类型：发明专利

专利号：CN201210053893.7

专利申请（专利权）人：工信华鑫科技有限公司

专利发明（设计）人：徐纯理;邱建宁;赵路;李新华;杨斗

主权项：一种圆筒状射流态直接电沉积设备，其特征在于：包括外层阴极管、内层阳极管、进料液管和出料口，所述外层阴极管套设在所述内层阳极管之外；所述内层阳极管的一端密封，另一端与所述进料液管密封连通；所述外层阴极管靠近所述进料液管的一端与同一端的内层阳极管之间密封连接，所述外层阴极管的另一端连通所述出料口；所述内层阳极管上开设有连通所述外层阴极管和所述内层阳极管的阳极管壁小孔。

专利地区：北京