一种再生镭射电化铝薄膜专利登记公告

专利名称：一种再生镭射电化铝薄膜

摘要：本发明涉及一种全息防伪印刷行业材料，特别涉及一种再生镭射电化铝薄膜，提供一种能够克服在制品缺陷、通过二次涂布下线半成品制成的再生镭射电化铝薄膜，包括：在作为基材层的基膜上、依次涂布离型层、成像层、镀铝层，其特征在于:在成像层和镀铝层之间设置有一层耐温区间为200-225℃的再生层，再生层涂布涂料的量控制在0.05-0.6g/m2之间，再生层厚度为0.025ｕm-0.3ｕm，再生层是含有填料纳米二氧化硅的丙烯酸树脂涂层，本发明改善在产品制备中存在的薄膜涂层耐温性差，造成模压废品率较高缺陷，不易起皮粘板，易于

专利类型：发明专利

专利号：CN201210054989.5

专利申请（专利权）人：湖北联合天诚防伪技术股份有限公司

专利发明（设计）人：李铭果;孔祥金

主权项：一种再生镭射电化铝薄膜，包括：在作为基材层的基膜（1）上、依次涂布离型层（2）、成像层（3）、镀铝层（5），其特征在于:?在成像层3和镀铝层5之间设置有一层耐温区间为200?225℃的再生层（4），再生层（4）涂布涂料的量控制在0.05?0.6g/m2之间，再生层（4）厚度为0.025μm??0.3μm，所述再生层（4）是含有填料纳米二氧化硅的丙烯酸树脂涂层。

专利地区：湖北