一种荧光标记特性的多孔羟基磷灰石陶瓷及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种荧光标记特性的多孔羟基磷灰石陶瓷及其制备方法

摘要：本发明提供一种荧光标记特性的多孔羟基磷灰石陶瓷及其制备方法，该陶瓷孔径为20～300μm，孔隙率为60%～90%，化学组成式为Ca1-xREx(PO4)0.6(OH)0.2，其中x=0.005～0.1，RE=Eu、Er、Ho、Pr、Tm、Sm、Tb中的任意一种或者几种；通过配制钙盐、和RE(NO3)3的混合溶液以及磷酸盐溶液或磷酸；然后在超声处理下，将上述溶液充分混合，再经陈化、干燥得到具有荧光标记特性的羟基磷灰石粉体，再将粉体加入聚乙烯醇水溶液、高分子微球和无机造孔剂混合均匀，再经成型、烧结得到荧光标记

专利类型：发明专利

专利号：CN201210055059.1

专利申请（专利权）人：昆明理工大学

专利发明（设计）人：邱建备;尹兆益;宋志国;杨正文;周大成;徐圆圆;余雪

主权项：一种荧光标记特性的多孔羟基磷灰石陶瓷，其特征在于：由化学组成式为Ca1?xREx(PO4)0.6(OH)0.2的组分，其中，x=0.005～0.1，RE为Eu、Er、Ho、Pr、Tm、Sm、Tb中的任意一种或者几种，其孔径为20～300μm，孔隙率为60～90%。

专利地区：云南