衬底处理装置及衬底的制造方法专利登记公告

专利名称：衬底处理装置及衬底的制造方法

摘要：本发明提供衬底处理装置，其具有：处理多个衬底(14)的反应室(44)；保持多个衬底(14)的舟皿(30)；具有向多个衬底(14)供给成膜气体的气体供给口(68、72)的气体供给喷嘴(60、70)；使供给到反应室(44)内的成膜气体排出的排气口(90)；热交换部(34)，设于反应室(44)下部，定义了第二流路，该第二流路比由反应室(44)的内壁和舟皿(30)定义的第一流路窄；气体逃逸部(340)，与设于舟皿(30)上的多个衬底(14)中的最下部衬底相比设置在下方，具有定义最下部衬底与热交换部(34)之间的空

专利类型：发明专利

专利号：CN201210055674.2

专利申请（专利权）人：株式会社日立国际电气

专利发明（设计）人：原大介;佐佐木隆史;山口天和;伊藤刚;福田正直;平松宏明;西堂周平

主权项：一种衬底处理装置，具有：反应室，用于处理多个衬底；舟皿，用于保持所述多个衬底；气体供给喷嘴，具有用于向所述多个衬底供给成膜气体的气体供给口；排气口，用于使供给到所述反应室内的所述成膜气体排出；热交换部，设于所述反应室的下部，并定义了第二流路，所述第二流路比由所述反应室的内壁和所述舟皿定义的第一流路窄；以及气体逃逸部，与设于所述舟皿上的所述多个衬底中的最下部衬底相比设置在下方，并具有定义所述最下部衬底和所述热交换部之间的空间的多根支柱。

专利地区：日本