用于处理微电子工件的设备和方法以及遮挡结构专利登记公告

专利名称：用于处理微电子工件的设备和方法以及遮挡结构

摘要：本发明提供了用一种用于处理微电子工件的设备，其包括：a)处理腔室，在处理期间在所述处理腔室中布置有工件；b)遮挡结构，其包括在处理期间叠置在工件上方并且至少部分地覆盖工件的下表面，其中在所述遮挡结构的下表面和工件之间的距离沿着朝向所述遮挡结构的外周边的方向逐渐减小；以及c)抽吸通道，其以使得在所述遮挡结构的下表面上的液体能够被从所述遮挡结构的下表面上抽吸回的方式与遮挡结构流体连通。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210058797.1

专利申请（专利权）人：FSI国际公司

专利发明（设计）人：J·D·柯林斯;D·德科雷克;T·A·加斯特;A·D·罗斯

主权项：一种用于处理微电子工件的设备，其包括：a)处理腔室，在处理期间在所述处理腔室中布置有工件；b)遮挡结构，其包括在处理期间叠置在工件上方并且至少部分地覆盖工件的下表面，其中在所述遮挡结构的下表面和工件之间的距离沿着朝向所述遮挡结构的外周边的方向逐渐减小；以及c)抽吸通道，其以使得在所述遮挡结构的下表面上的液体能够被从所述遮挡结构的下表面上抽吸回的方式与遮挡结构流体连通.

专利地区：美国