发光装置专利登记公告

专利名称：发光装置

摘要：本发明公开一种发光装置，其包括一基板、一第一导电层、一第二导电层、一自发光层以及一第一辅助导电图案层。第一导电层与第二导电层皆配置于基板上。自发光层配置于第一导电层与第二导电层之间以于基板上定义出一发光区域。第一辅助导电图案层接触于第一导电层。第一辅助导电图案层的阻抗小于第一导电层的阻抗。第一辅助导电图案层于发光区域内所占的周长(um)与发光区域的面积(um2)间的比值大于0且小于等于0.0262(1/um)。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210060223.8

专利申请（专利权）人：友达光电股份有限公司

专利发明（设计）人：林振祺;江伯轩;吴长晏;林俊良

主权项：一种发光装置，包括：基板；第一导电层，配置于该基板上；第二导电层，配置于该基板上；自发光层，配置于该第一导电层与该第二导电层之间以于该基板上定义出一发光区域；以及第一辅助导电图案层，接触于该第一导电层，该第一辅助导电图案层的阻抗小于该第一导电层的阻抗，且该第一辅助导电图案层于该发光区域内所占的周长与该发光区域的面积间的比值大于0且小于等于0.0262(1/um)。

专利地区：台湾