一种硅片金相样品的简易制备方法专利登记公告
专利名称:一种硅片金相样品的简易制备方法
摘要:本发明公开了一种硅片金相样品的简易制备方法,选取平整的圆柱作为硅片的载板;将热熔胶置于载板上,加热载板至热熔胶熔化;将硅片平放在载板中间覆盖于热熔胶之上,用另一个平整的压块施压于硅片上;冷却载板至室温,使热熔胶固化;对制备好的样品进行抛光处理;抛光处理后,重新加热载板使固熔胶熔化,硅片脱落取下;清洗硅片,完成超薄硅片的金相制样。本发明工艺简单,操作方便,实施成本低,制备的薄硅片样品在磨抛过程中不翘曲、无破碎,表现稳定,更为关键的是加工完成后硅片能够方便取出,实现了对超薄硅片显微结构的全方位观察,并能够方便
专利类型:发明专利
专利号:CN201210064597.7
专利申请(专利权)人:苏州协鑫工业应用研究院有限公司
专利发明(设计)人:宫龙飞;王风振
主权项:一种硅片金相样品的简易制备方法,其特征在于,它包括如下步骤:(1)选取平整的圆柱作为硅片的载板;(2)将热熔胶置于载板上表面,加热载板至热熔胶熔化;(3)将硅片平放在载板上表面且覆盖于热熔胶之上,用另一个平整的压块施压于硅片上;(4)冷却载板至室温,使热熔胶固化;(5)对步骤(4)制备好的样品进行抛光处理;(6)抛光处理后,重新加热载板使固熔胶熔化,硅片脱落取下;(7)清洗硅片,完成超薄硅片的金相制样。
专利地区:江苏
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。