防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法专利登记公告

专利名称：防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法

摘要：本发明的课题在于提供不但能够维持微细凹凸结构体的防反射性能，并且耐高温高湿环境性和耐擦伤性优良的防反射光学元件。为了解决上述课题，采用在光学元件主体(10)的光学表面(11)上设置抑制入射光的反射的微细凹凸结构体(20)的防反射光学元件(1)，其特征在于，具有覆盖微细凹凸结构体(20)的外侧的、由透光性材料形成的覆盖层(30)，并以在该覆盖层(30)与该微细凹凸结构体(20)的凹部(22)之间设置了空隙(40)的状态，由该覆盖层(30)覆盖该微细凹凸结构体(20)的凸部(21)的顶端。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210065792.1

专利申请（专利权）人：株式会社腾龙

专利发明（设计）人：宫原正明;国定照房;涩谷穰

主权项：一种防反射光学元件，其是在光学元件主体的光学表面上设置有抑制入射光的反射的微细凹凸结构体的防反射光学元件，其特征在于，具有覆盖该微细凹凸结构体的外侧的、由透光性材料形成的覆盖层，以在该覆盖层与该微细凹凸结构体的凹部之间设置了空隙的状态，由该覆盖层覆盖该微细凹凸结构体的凸部顶端。

专利地区：日本