一种低消耗改性聚偏二氟乙烯的配方专利登记公告
专利名称：一种低消耗改性聚偏二氟乙烯的配方
摘要：本发明揭示了一种低消耗改性聚偏二氟乙烯的配方，包括改性聚偏二氟乙烯、减磨剂、成核剂、偶联剂、促进剂以及活性剂，所述的减磨剂为十八烷胺，成核剂为二苯基醋酸，偶联剂为硫氰基丙基三乙氧基硅烷，促进剂为二正丁基胺，活性剂为硬脂酸锌。使制得的低消耗改性聚偏二氟乙烯具有摩擦小、损耗小、成本低的效果。
专利类型：发明专利
专利号：CN201210069135.4
专利申请（专利权）人：苏州新区特氟龙塑料制品厂
专利发明（设计）人：陆华平
主权项：一种低消耗改性聚偏二氟乙烯的配方，其特征在于：包括改性聚偏二氟乙烯、减磨剂、成核剂、偶联剂、促进剂以及活性剂，所述的减磨剂为十八烷胺，成核剂为二苯基醋酸，偶联剂为硫氰基丙基三乙氧基硅烷，促进剂为二正丁基胺，活性剂为硬脂酸锌。
专利地区：江苏
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